金融界2025年3月22日音问，国度常识产权局信息默契，拓荆科技（上海）有限公司苦求一项名为“缩短low-K氧化硅材料的K值的方法”的专利，公开号CN119650428A哥也色中文娱乐，苦求日历为2024年12月。

专利提要默契，本发明属于半导体限度，具体地触及一种缩短low‑K氧化硅材料的K值的方法。所述方法包括要领：(1)将千里积有low‑K氧化硅材料的晶圆传至响应腔；(2)预热所述千里积有low‑K氧化硅材料的晶圆；(3)使用氩气进行资料等离子体装配的燃烧；(4)逐渐减少氩气的流量而且逐渐加多氢气的流量直至氩气流量为零，使氢气接续处理所述low‑K氧化硅材料。本发明方法通过资料氢等离子体转换low‑K氧化硅材料里面碳的构型缩短其K值。本发明资料氢等离子体时间是一种全新的缩短low‑K氧化硅材料K值的方法，该方法苟简、平直、高效且无需化学添加剂，而且该经过不会在low‑K氧化硅材料里面引入新的孔隙，本发明方法为处置lowK氧化硅材料清贫提供了新的处置决策。

天眼查良友默契，拓荆科技（上海）有限公司，树立于2020年，位于上海市，是一家以从事科技实行和期骗办行状为主的企业。企业注册老本135253.79万东谈主民币，实缴老本95253.78万东谈主民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标花式19次，财产陈迹方面有商标信息1条，专利信息236条，此外企业还领有行政许可11个。

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